三價黑鉻

産品詳細

三價⿊鉻

産品簡介：

三價⿊鉻電(diàn)鍍⼯藝，所沉積的鍍層同樣是純⾦屬鉻，故仍具⾦屬鉻的特性，如硬度⾼、耐磨性及耐蝕性俱佳等，其鍍液以三價鉻化合物(wù)提供⾦屬鉻的來源，并以低⾦屬鉻含量操作，是新型環保産品，不含六價鉻，廢⽔處理簡單。電(diàn)鍍時斷電(diàn)不會有不良後果，沉積速度較六價鉻快。

1、鍍液組成及操作條件：

1. 操作條件最佳值控制範圍

2. 開(kāi)缸鹽 310克/升 300-320 克/升

3. 鉻鹽 120克/升 110-130 克/升

4. 穩定劑 120 毫升/升 100-120毫升/升

5. ⿊鉻發⻩劑 1 号 20毫升/升 10-30 毫升/升

6. 發⻩劑 2号 10 毫升/升 10－30毫升/升

7. 增⿊劑 20毫升/升 15-35 毫升/升

8. ⾛位劑 40 毫升/升 30-45 毫升/升

9. WA 濕潤劑 4毫升/升 3-5毫升/升

10. 氨⽔ 35毫升/升 30-40 毫升/升

11. ⾦屬鉻（分(fēn)析值） 22 克/公升 20-24 克/升

12. PH 值 2.8 2.6-3.0

溫度 50℃ 45-55℃

⽐重 26 26-27

陰極電(diàn)流密度 10A/dm2

5-20A/dm2

陽極材料專⽤陽極（進⼝⽯墨碳闆）

過濾連續過濾

攪拌輕微空⽓攪拌

加熱钛、鐵佛⻰

陽極⾯積⽐陰極⾯積 1.5-2⽐ 1

沉積速度 0.16-0.3um/分(fēn)鍾

霍⽒槽打⽚條件： 6A、3分(fēn)鍾、40℃攪拌、⾛位與六價鉻相似。

2、設備要求:

A）鍍槽：PVC、ABS、聚⼄烯襯槽；

B）陽極：采⽤專⽤陽極及钛鈎；

C）溫度控制：采⽤钛加熱管及钛冷卻管裝置；

D）整流器：12-15Ｖ，提供直流電(diàn)，爲使鍍液穩定建議配置安培⼩時積累計。

3、鍍液：本公司新開(kāi)好的⼯作液,将其先加熱⾄ 75-80℃，再降到 55℃

4、原料的功能及控制：

A）對鍍液的控制需要在安培⼩時内對電(diàn)鍍液中(zhōng)各成份的數量、⽐重、酸堿度和溫度進⾏

調控。爲取得最佳電(diàn)鍍性能，每個輪班⾄少需對⿊鉻的各種原料補充添加⼀次，如⼯作

載重⼤于 0.75安培/公升時補充次數應該更頻(pín)繁，定期分(fēn)析鍍液各成份及按照安培⼩時

消耗補充⿊鉻的各種原料，對⿊鉻⼯藝的穩定性⼗分(fēn)重要。建議使⽤⼯作⽇志(zhì)記錄⽣産

線的安培分(fēn)鍾⽤量、⽐重值、PH 值、溫度及⿊鉻的各種原料補充資(zī)料，帶⽔消耗可根

據⽐重值 26-28玻美調節；

B）CS 開(kāi)缸鹽：⽤于提⾼鍍液的⽐重及提供鉻離(lí)⼦，最佳值爲 26，每提⾼⼀個單位

需加 25-30克/升 CS 開(kāi)缸鹽，濃度過⾼會引起鍍液結晶，使陽極鈍化及打⽓管出現

堵塞，濃度太低時，會影響鍍液導電(diàn)性能；

C）CM ⿊鉻鹽：補充鍍液所消耗的鉻離(lí)⼦，補充量爲 400-500 克/千安培⼩時。由于

鉻鹽的溶解度較低，加⼊時須緩慢(màn)地逐少量加⼊，加⼊ 7-8克/升的 CM 鉻鹽，可

提⾼ 1 克/升的鉻含量；

D）ST 穩定劑：含有 ST 穩定劑和 GLH ⿊鉻發⿊劑，消耗量爲 2000-2500

毫升/千安培⼩時；

E）GLH ⿊鉻添加劑：調整鍍層⾊澤均勻度。消耗量爲 20-50毫升/千安培⼩時；

F）GLH 發⻩劑：起到消耗量爲 300-500毫升/千安培⼩時；

G）GLH 增⿊劑：起到消耗量爲 300-500毫升/千安培⼩時；

H）CL ⾛位劑：可增⼤電(diàn)流密度範圍。消耗量爲 500-1000毫升/千安培⼩時；

I）WA 濕潤劑：能提⾼⾛位，消耗量爲 80毫升/千安培⼩時；

H）PH 值：可⽤鹽酸或濃氨⽔調整 PH 值，每加⼊ 2毫升/升濃鹽酸鍍液 PH 值降低 0.1；每

加⼊ 2 毫升/升濃氨⽔鍍液 PH 值提⾼ 0.1，加⼊鹽酸或氨⽔之後需攪拌 2-4 ⼩時才可⽤ PH

機測試鍍液的 PH 值，PH 過⾼三價鉻會沉澱；

I）溫度：太低有沉澱析出，太⾼嚴重影響鍍層覆蓋能⼒。

① 鍍液的特殊性：平時⽣産⼯作溫度控制在 45-55℃，可以經常性⽤炭芯過濾鍍液，

不影響⽣産。加料或處理缸最好加溫⾄ 60℃以上保溫 2 ⼩時再降⾄正常溫度。⼀般連

續⽣産 2-3天需要選擇時間對鍍液進⾏加溫，使各組份絡合的更好；

② ⽣産中(zhōng)請按安培⼩時添加，并填寫記錄表。

5、⾦屬雜(zá)質控制及影響：

① 當三價⿊鉻鍍液受銅、鋅、鎳、鐵、鉛等⾦屬雜(zá)質污染時，鍍層的⾊澤及外(wài)觀會受

到某程度影響。⾦屬雜(zá)質含量較⾼時，鍍層⾊澤發灰。含量嚴重過多時，鍍層⾊澤不均，

會出現⽩條紋或⽩斑等情況。鍍液的帶⼊及⼯件從挂具上掉⼊槽中(zhōng)溶掉是⾦屬雜(zá)質的主

要來源；

② 定期清缸，清理掉進缸底的⼯件，可有效防⽌⾦屬雜(zá)質對三價⿊鉻鍍層⾊澤的影響。⼤部份⾦屬雜(zá)質如鋅、鐵及鎳，可⽤低電(diàn)流電(diàn)解清除，或可加除雜(zá)⽔ 1号掩蔽。銅雜(zá)質

⽐較敏感，需加⼊除雜(zá)⽔ 2号，然後加強過濾并做電(diàn)解處理，即可清除；

③ 當鍍液受銅污染時，⾼、中(zhōng)電(diàn)流區灰，随着銅雜(zá)質濃度的增加，鍍層發⽩；

④ 鍍液受鎳污染時，中(zhōng)電(diàn)流區會出現⻩⾊鍍層，當鍍液同時含有鐵雜(zá)質時低電(diàn)流密度

區會呈⾦⾊；

⑤ 鍍液受鉛離(lí)⼦污染時，低電(diàn)流會出現⽩斑，鍍液的深鍍能⼒較差，含量過⾼時，⾼

電(diàn)流密度區鍍層結合⼒下(xià)降。采⽤電(diàn)解的⽅法可去(qù)除鉛的污染。

6、産品⽬錄：

★ ⿊鉻⼯作液 ★

1. 開(kāi)缸鹽

2. 鉻鹽

3. 穩定劑

4. ⿊鉻添加劑

5. 發⻩劑

6. 增⿊劑

7. ⾛位劑

8. 濕潤劑

9. 除雜(zá)⽔ 1 号（鎳）

10. 除雜(zá)⽔ 2 号（銅）

11. 專⽤陽極（⽯墨碳闆）

7、三價⿊鉻電(diàn)鍍與傳統六價鉻電(diàn)鍍的⽐較：

A）覆蓋能⼒強，電(diàn)流範圍⼴闊，⾼電(diàn)位燒焦現象減少，可挂較多數量的⼯件，不需沖擊

電(diàn)鍍，可像酸銅、鎳般循環電(diàn)鍍；

B）分(fēn)散能⼒極佳，電(diàn)鍍速度極快，厚度分(fēn)布更均勻；

C）不像六價鉻電(diàn)鍍容易産⽣⽩漬；

D）此⼯藝采⽤專⽤⽯墨陽極，陽極使⽤壽命⻓，使鍍液免受鉛污染；

E）電(diàn)鍍時使⽤的電(diàn)流密度低，節省電(diàn)⼒能源的消耗；

F）鍍層不含六價鉻痕漬，符合 ROHS 标準；

G）環保，不會對空⽓産⽣污染，⽽廢⽔處理更簡易；

H）安全操作，對從業⼈員(yuán)的健康有保障。

8、電(diàn)鍍故障及處理：

故障	原因	處理
鍍層有⽩⾊斑紋	1、⾦屬鉛污染	1、扯⽚處理及排查鉛污染來源
	2、前處理不良	2、加強前處理
鍍層發白(bái)	1、PH 值⾼	1、⽤鹽酸調整 PH 值
	2、⽐重低	2、補加 CS 開(kāi)缸鹽
	3、鍍鎳前鍍層清潔不⼲淨	3、清洗澈底
	4、鍍鉻前⼯件過于⼲燥	4、保持⼯件微濕
鍍層發藍(lán)、起彩	1、GLH ⿊鉻發⿊劑多	1、減少⿊鉻添加劑⽤量
⾼電(diàn)位燒	1、溫度低	1、提⾼鍍液溫度
結合⼒差	1、鎳層鈍化	1、鉻預浸時受六價鉻污染，排查
	2、鉛雜(zá)質污染	2、扯⽚處理及排查鉛污染來源
	3、在鎳出⼝處雙極化	3、較正雙極化
	4、在鉻⼊⼝處雙極化	4、較正雙極化
⾛位差	1、PH 偏低	1、⽤氨⽔調整 PH 值
	2、⽐重偏低	2、補充 CS 開(kāi)缸鹽
	3、打⽓過快	3、減⼩打⽓
	4、CL ⾛位劑少	4、補加 CL ⾛位劑
	5、WA 濕潤劑少	5、補加 WA 濕潤劑
沉積速度慢(màn)	1、PH 偏⾼	1、⽤鹽酸調整 PH 值
	2、攪拌慢(màn)	2、提⾼攪拌速度
	3、⽐重低	3、添加 CS 開(kāi)缸鹽
	4、鉻離(lí)⼦偏低	4、補加 CM 鉻鹽
缸邊有結晶	1、溫度過低	1、對鍍液加溫
	2、⽐重太⾼	2、稀釋鍍液
鍍層偏⻩	1、⿊鉻 CL ⾛位劑少	1、補充 CL ⾛位劑
	2、⽐重偏低	2、補充 CS 開(kāi)缸鹽
淺⾊鍍層	1、溫度過⾼ 2、PH 值過低	1、降低鍍液溫度 2、⽤氨⽔調整 PH 值
	3、⽐重偏低	3、補充 CS 開(kāi)缸鹽
	4、CL ⾛位劑多	4、減少 CL ⾛位劑的添加